「なぜ失敗したかわからない」を確信に変える一台。従来の試作環境では難しかった「真空・加圧・温度制御」の精密な管理を、この一台に凝縮しました。
大型炉の空き待ちや、外注評価の結果待ちによらない、「試す→確認→修正」を自社で完結でき、試作・開発スピードが上がります。
実用新案出願済のリフティングデバイス
昇温も、降温も。熱制御を"機構レベル"で加速する。
実用新案出願済の独自機構により、ワークと熱源の距離を精密制御。
温度制御だけに依存しない、次世代の熱プロセス制御を実現します。
特徴
- 小型
研究室の卓上に設置できるコンパクトサイズ。大型炉を必要とせず、限られたスペースで即座に試験を開始できます。 - 温度変化プロセスの可視化
チャンバー内のプロセス観察窓から、リフロー中のワーク状態をリアルタイムで観察可能。現象の「見える化」が開発精度を高めます。 - 真空・窒素パージ
真空雰囲気（-0.1MPa）と窒素パージの両方に対応。酸化抑制・ボイド低減など、雰囲気制御が品質に直結する工程を正確に評価できます。 - 温度プロファイル制御
8プログラム×16ステップの精密な温度プロファイル制御。昇温・保持・冷却の各フェーズを自在に設定し、再現性の高い評価を実現します。
主な仕様
| チャンバー有効内寸 |
W170 × D170 × H20 mm |
|---|---|
| 最大昇温速度 | 120℃/min |
| 最大降温速度 | 80℃/min |
| 温度分布 | ±4℃ |
| 酸素濃度 | 1%以下 |
| 真空度 | 0.1MPa |
| 制御プログラム | 8プログラム × 16ステップ |
| 外形寸法 | W520 × D370 × H192 mm |
| 本体重量 | 22.5 kg |
| 設置環境 | 卓上設置対応 |
| 電源 | 単相200V |
課題解決に最適
当製品を導入することで、以下の課題を解決に導きます。
- 外注待ち・手戻りを減らし、試作条件出しを内製で完結したい
- 真空・窒素雰囲気で比較試験したい
- 外注評価の待ちをなくし、1日複数サイクルの試験を実現したい
- リアルタイムモニタリングで、失敗要因の切り分けを早め、その場で原因特定したい
導入前検証
導入前に、ご検討のワークや評価テーマに適合するかをご納得いくまでご確認いただけます。
弊社にお越しいただければ実機を無料でお試しいただけます。受託試験（有償）や実験室貸出（有償）も対応いたします。
事前のWEBミーティングでご相談も受け付けております。
来社デモ（無料）や、専任の技術営業担当への相談等、お気軽にお問い合わせください。
こちらのページでもご紹介しています → https://www.taise-reflow.com
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